光刻機巨頭ASML回應荷蘭出口管制新規：只涉及部分DUV
【文/觀察者網 呂棟】
6月30日晚間，荷蘭光刻機巨頭ASML在向觀察者網提供的一份聲明中稱，荷蘭政府于今日頒布了有關半導體設備出口管制的新條例。正如其在今年三月發布的消息中所述，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統。
ASML表示，根據新出口管制條例規定，該公司需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統（即TWINSCAN NXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細節。
ASML在聲明中重點指出，荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統（DUV，深紫外光刻）。而該公司的EUV光刻（極紫外光刻）系統在此前已經受到限制，其他系統的發運暫未受荷蘭政府管控。
“ASML將繼續遵守適用的出口管制條例，其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。”
這家光刻機巨頭稱，荷蘭政府新頒布的出口管制條例將于2023年9月1日生效，在此日期前，ASML可開始提交出口許可證申請，荷蘭政府將視具體情況批準或拒絕這些申請。
ASML參展SEMICON China 2023 圖源：觀察者網
當地時間周五（6月30日），荷蘭政府正式宣布限制某些先進半導體設備出口的新規，這些規定將于9月1日生效。具體而言，荷蘭政府將要求先進芯片制造設備的公司在出口之前須獲得許可證。盡管荷蘭政府并未直接點名會受到限制的公司，但外界都明白這是在針對當地最出名的半導體設備公司ASML。
荷蘭方面這一動作其實早有跡象。今年3月，荷蘭外貿與發展合作大臣施賴納馬赫爾（Liesje Schreinemacher）就曾向荷蘭議員宣稱，“鑒于技術發展和地緣政治背景，政府得出結論，為了（國際）國家安全，有必要擴大對特定半導體制造設備的現有出口管制。”
彼時ASML就曾發布聲明稱，新出口管制并不適用于所有的浸潤式光刻系統，而只適用于所謂“最先進的”，并且這些管控措施轉化為立法并生效還需要時間。ASML所謂“最先進的”DUV，是指TWINSCAN NXT:2000i和后續推出的浸潤式系統。
這也意味著，ASML生產的TWINSCAN NXT:1980Di等更成熟的浸潤式DUV機型不在受限范圍。
觀察者網查詢方正證券2020年6月發布的研報發現，TWINSCAN NXT:2000i DUV（雙工作臺深紫外光刻機）曾是ASML最先進的浸沒式光刻系統，也是EUV光刻機之前的重要過渡產品，同時是后期7nm/5nm產能的重要補充。這種機型在2018年就已開始出貨，被視為可用于生產7nm等制程（多次曝光）。
ASML官網顯示，TWINSCAN NXT:2000i專為與EUV混合使用而設計，可為高級邏輯和DRAM節點的大批量制造提供出色的覆蓋、聚焦控制和交叉匹配。比這款光刻機更先進的型號是TWINSCAN NXT:2050i，該系統滿足多種圖案化要求，為在高級邏輯和DRAM節點制造300毫米晶圓提供經濟高效的解決方案。
ASML官網截圖
在先后兩次聲明中，這家荷蘭光刻機巨頭提到，主要關注成熟制程的客戶，可以使用不太先進的浸潤式光刻工具，“我們認為這些管制條例不會對已發布的2023年財務展望以及于2022年11月投資者日宣布的長期展望產生重大影響”。
但不能自由出貨，ASML在華收入將不可避免受到干擾。該公司預計2023年中國大陸銷售額將保持在22億歐元左右（約合人民幣162億元），而全球總銷售額將增長25%，因為主要客戶臺積電和英特爾都在擴產。
根據ASML財報，2022年該公司共出貨345臺光刻系統，其中有81臺浸潤式DUV光刻機（ArFi），占比為23%。所有產品中，42%銷往中國臺灣，29%銷往韓國，14%銷往中國大陸，銷往美國的只有7%。
ASML光刻機型號（資料圖）
在荷蘭政府宣布新的半導體出口管制條例后，中國駐荷蘭大使館6月30日很快做出回應：荷蘭政府正式出臺半導體制造設備的出口管制措施，這是對出口管制措施的濫用，是對自由貿易和國際經貿規則的嚴重背離，中方對此堅決反對。
“我們呼吁荷方從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，立即糾正錯誤做法。中方將堅決維護自身合法權益。同時，也愿與荷方一道，本著互利互惠的原則，共同探討解決方案，共同推動中荷經貿關系健康發展。”中國駐荷蘭大使館發言人表示。
ASML方面也早就對出口管制做出過警示。今年2月，在接受歐洲媒體采訪時，ASML首席執行官溫彼得直言，如果美國及其盟友切斷中國（大陸）獲得某些半導體和半導體制造技術的渠道，中國將被迫加倍努力開發自主技術。他坦言，雖然出口管制是合法工具，但不應該被濫用，決策者在“擺弄”半導體供應鏈之前應充分了解它的復雜性。